1. týden: Úvod do atomové spektrometrie (AS): EMG záření, jeho vlastnosti a interakce s hmotou, zákonitosti vzniku atomových spekter, pravděpodobnost absorpce a emise, vlastnosti spektrální čáry, klasifikace metod AS. 2. týden: Atomová absorpční spektrometrie (AAS): princip, rozdělení metod, instrumentace (zdroje záření, optický systém, atomizátory, detektory, zpracování signálu, systémy pro korekci nespecifické absorpce). 3. týden: AAS s plamenovou (FL) atomizací, elektrotermická (ETA) AAS - popis atomizace, izotermičnost atomizačního děje, teplotní program a jeho optimalizace, interference matrice - klasifikace, mechanismy, možnosti identifikace a eliminace, STPF koncept. 4. týden: Generování těkavých sloučenin: Hydridová technika - princip, význam, použití, možnosti generování hydridů, jejich transport, separace, kolekce a atomizace, uspořádání generátorů, interference matrice. Metoda studených par a termooxidační stanovení rtuti - principy, instrumentace, analytické charakteristiky, aplikace. 5. týden: Atomová fluorescenční spektrometrie (AFS): princip, typy fluorescenčních přechodů, instrumentace, interference matrice, analytické aplikace. Úvod do optické emisní spektrální analýzy (OES): princip, budící zdroje, optický systém - uspořádání, monochromátory a polychromátory, detekce záření. 6. týden: Plamenová fotometrie: teoretické základy, hlavní části fotometru, využití v reálných aplikacích. OES s ionizací v indukčně vázaném plazmatu (ICP-OES): vznik a fyzikální vlastnosti plazmatu, moderní instrumentace, interference matrice, analytické charakteristiky a aplikace. 7. týden: Optická emisní spektrometrie s mikrovlnně indukovaným plazmatem (MP-OES), spektrometrie laserem buzeného plazmatu (LIBS), OES s buzením doutnavým výbojem (GD-OES) - základní principy a analytické charakteristiky, instrumentace, interference matrice, možnosti kvantitativní a kvalitativní analýzy prvků. 8. týden: Hmotnostní spektrometrie s ionizací v indukčně vázaném plazmatu (ICP-MS): princip, konstrukce spektrometrů, hmotnostní analyzátory, rozlišovací schopnost, systémy vnášení vzorku, interference matrice a možnosti jejího odstranění, analytické charakteristiky a aplikace. 9. týden: Atomová spektrometrie subvalenčních elektronů: princip, primární a sekundární excitace, relaxační proces, RTG záření, značení čar RTG spektra, přehled metod atomové spektrometrie subvalenčních elektronů. 10. týden: Rentgenová fluorescenční spektrometrie (XRF): buzení charakteristického záření a jeho monochromatizace, detekce, vyhodnocení XRF spektra, vlnově disperzní (WDXRF) a energiově disperzní (EDXRF) systémy a jejich srovnání, kvalitativní a kvantitativní analýza, interference matrice. 11. týden: Vybrané metody lokální analýzy a analýzy povrchů: přehled, principy, uspořádání, význam a využití. 12. týden: Speciace prvků s využitím metod AS: definice, význam, tandemové techniky, aplikace, trendy. 13. týden: Problematika přípravy vzorku k analýze metodami atomové spektrometrie.
|