Prace byla v.novana studiu organokovych prekurzor., ktere by mohly byt vyu.ity p.edev.im pro depozice tenkych vrstev III-VI material.. Prvni .ast diserta.ni prace se zabyvala studiem mo.neho vyu.iti znamych N ?¨ Ga intramolekularn. koordinovanych chalkogenid. jako vhodnych SSP pro p.ipravu tenkych polovodi.ovych vrstvev III-VI material.. Druhym cilem teto prace byla snaha o p.ipravu monomernich N ?¨ M (M = Ga, In) intramolekularn. koordinovanych chalkogenid. a chalkogenolat. prvk. 13. skupiny. Pro tento u.el byly v teto praci vyu.ity rozdilne N,C,N- a C,N-chelatujici ligandy L1-3 (L1 je {2,6-(Me2NCH2)2C6H3}-, L2 je {2-(Et2NCH2)-4,6-tBu2-C6H2}- a L3 je {2,6-(tBuN=CH)2C6H3}-).
Anotace v angličtině
The work was focused on the study of organometallic precursors, which could be used for deposition of thin films III-VI materials. The first aim of this dissertation was to investigated known N ?¨ Ga intramolecularly coordinated chalcogenides for deposition of semiconductor thin layers of III-VI materials. The second aim of the dissertation was focused on the synthesis of new monomeric N ?¨ M (M = Ga, In) intramolecularly coordinated chalcogenides.or chalcogenolates of the 13th group elements. For this reason either N,C,N- or C,N-chelating ligands L1-3 (L1 is {2,6-(Me2NCH2)2C6H3}- L2 is {2-(Et2NCH2)-4,6-tBu2-C6H2}-and L3 is {2,6-(tBuN=CH)2C6H3}-) were used.
Klíčová slova
13. skupina prvků, tenké vrstvy, spin coating, chalkogenidy a chalkogenoláty, redukce
Klíčová slova v angličtině
13th group element, thin films, spin coating, chalcogenides and chalcogenolates, reduction
Rozsah průvodní práce
-
Jazyk
CZ
Anotace
Prace byla v.novana studiu organokovych prekurzor., ktere by mohly byt vyu.ity p.edev.im pro depozice tenkych vrstev III-VI material.. Prvni .ast diserta.ni prace se zabyvala studiem mo.neho vyu.iti znamych N ?¨ Ga intramolekularn. koordinovanych chalkogenid. jako vhodnych SSP pro p.ipravu tenkych polovodi.ovych vrstvev III-VI material.. Druhym cilem teto prace byla snaha o p.ipravu monomernich N ?¨ M (M = Ga, In) intramolekularn. koordinovanych chalkogenid. a chalkogenolat. prvk. 13. skupiny. Pro tento u.el byly v teto praci vyu.ity rozdilne N,C,N- a C,N-chelatujici ligandy L1-3 (L1 je {2,6-(Me2NCH2)2C6H3}-, L2 je {2-(Et2NCH2)-4,6-tBu2-C6H2}- a L3 je {2,6-(tBuN=CH)2C6H3}-).
Anotace v angličtině
The work was focused on the study of organometallic precursors, which could be used for deposition of thin films III-VI materials. The first aim of this dissertation was to investigated known N ?¨ Ga intramolecularly coordinated chalcogenides for deposition of semiconductor thin layers of III-VI materials. The second aim of the dissertation was focused on the synthesis of new monomeric N ?¨ M (M = Ga, In) intramolecularly coordinated chalcogenides.or chalcogenolates of the 13th group elements. For this reason either N,C,N- or C,N-chelating ligands L1-3 (L1 is {2,6-(Me2NCH2)2C6H3}- L2 is {2-(Et2NCH2)-4,6-tBu2-C6H2}-and L3 is {2,6-(tBuN=CH)2C6H3}-) were used.
Klíčová slova
13. skupina prvků, tenké vrstvy, spin coating, chalkogenidy a chalkogenoláty, redukce
Klíčová slova v angličtině
13th group element, thin films, spin coating, chalcogenides and chalcogenolates, reduction
Zásady pro vypracování
-
Zásady pro vypracování
-
Seznam doporučené literatury
-
Seznam doporučené literatury
-
Přílohy volně vložené
-
Přílohy vázané v práci
-
Převzato z knihovny
Ne
Plný text práce
Přílohy
Posudek(y) oponenta
Hodnocení vedoucího
Záznam průběhu obhajoby
Dne 18. 9. 2019 Ing. Tomáš Řičica zdárně přednesl obhajobu své disertační práce na téma Organokovové sloučeniny pro depozici anorganických materiálů před komisí. Přítomni byli členové komise dle prezenční listiny, doc. Ing. Milan Erben, Ph.D. se omluvil. Vyčerpávajícím způsobem poté Ing. Tomáš Řičica zodpověděl všechny dotazy oponentů z jejich oponentských posudků a také dotazy kladené přítomnými členy komise při diskusi:
prof. RNDr. Jiří Příhoda, CSc.
Jaké jsou možnosti využití vámi připravovaných deponovaných vrstev?
prof. Ing. Aleš Růžička, Ph.D.
Zkoušel jste ze sloučeniny 17 připravit dimer?
Zkoušel jste ozařovat vzorek v průběhu měření EPR spektra?
doc. Ing. Libor Dostál, Ph.D.
Zkoušel jste uvedenou reakci sloučeniny 17 v benzenu?
V jakém rozpouštědle probíhala analogická reakce sloučeniny 5?
prof. Ing. Jaromír Vinklárek, Dr.
Jak si vysvětlujete rozdíly ve vzorcích vrstev vytvořených různými metodami?
prof. Ing. Antonín Lyčka, DrSc.
Proč jste používal jako rozpouštědlo propylamin?
Z porovnání mezi předloženou disertační prací a předloženými publikacemi vyplývá zjevná souvislost mezi těmito dokumenty.
Ing. Tomáš Řičica má zásadní podíl na předložených publikacích.